項目簡介

國際上根據工藝流程的不同，真空鍍膜技術可分為化學氣相沉積技術(CVD，Chemical Vapor Deposition)和物理氣相沉積技術(PVD，Physical Vapor Deposition)。CVD 是近年來興起的一種先進薄膜制備技術，采用 CVD 制備的薄膜致密，薄膜與基板的結合力強且薄膜沉積速率高，非常適合工業化應用。本團隊研制開發了具有自主知識產權的“智能噴液霧化-多元共析化學氣相沉積設備”及相應的“多類功能及結構薄膜制備技術”，適用于在一維（1D)、二維（2D)及三維（3D)大尺寸、異形工件或基體上使用化學氣相沉積法制備各種功能/結構薄膜材料，能賦予工件更多的功能及更為優越的性能，擴大工件的應用范圍，能為機械、微電子、光學、汽車、模具、電學及航空航天等領域提供需要的多種新型膜材料，適用范圍廣，安全性能高。

產品技術先進性

本項目技術團隊負責人多年來一直從事CVD鍍膜技術研究工作，在日本東北大學(Tohoku University)金屬材料研究所求學和從事科研工作期間，一直致力于CVD技術的研究開發，2013年回國后從事相關研究至今，已申請相關專利1項，核心技術未申請專利，項目技術具有完全的自主知識產權。該項目負責人目前已經研制出10余臺科研用的小型CVD鍍膜設備和大型CVD工業設備，設備制造工藝成熟，使用過程中未發現任何問題，對比國外同類型CVD產品，本項目產品的技術已達到國際先進、國內領先的水平。

技術優勢

1）搭載的“噴液霧化-多元共析液體原料供給系統”解決了以往CVD設備中固體原料蒸發罐供給系統在工業應用中無法長時間提供精確、持續、穩定的原料蒸氣難題。能精準地控制多元化合物原料的各元素化學計量比，特別是能精準控制多元薄膜材料的化學成分，并能長時間提供精確、持續、穩定的原料蒸氣，徹底解決原料浪費現象，是工業化應用必備的條件。 2）搭載的“智能真空度控制系統”，能精準控制本設備腔體內的壓強，并能將腔體真空度維持在100-1000 Pa之間的任意設定值，能保證工業生產時薄膜質量的精準控制。 3）搭載的“智能操控系統”能實現能用電腦精準控制薄膜沉積過程中的每個動作，實現了全自動智能化操作，杜絕了人為操作出現的失誤的情況，解決了樣品可重復性差這一難題。

打破發達國家的技術壟斷，填補了我國在該領域的技術空白，經濟效益顯著。

本技術已達到工業化使用標準，適用于化學氣相沉積法制備多類功能/結構薄膜，適用范圍廣，市場需求大、安全性能高。特別是研制的700mm*700mm*700mm類大尺寸碳化硅鍍膜設備，已在相關的多家科研院所和高新技術企業成功推廣應用。此類型大尺寸碳化硅鍍膜設備在我國尚無資料報道，本成果打破發達國家的技術壟斷，填補了我國在該領域的技術空白，經濟效益顯著。

合作方式

技術許可、技術轉讓、技術入股